석유화학 생산 과정에서 공급된 가스에 염소 염소 제거 필요한 이므로 다양 한 촉매 및 흡착 제, 흡착 제 및 촉매 성능, 장치 및 장비, corrosivity 심하게 실패의 중독을 발생할 수 있습니다. 일반적으로, 우리는 공급된 가스에서 염화를 제거 하는 단단한 antichlor를 채택 한다. XR-104 알 루미나 지원 염화 흡착 제 염소를 벗고 높은-효율적인 제품 이다.

시리즈 유형이 있다-XR104A, XR104B

lVarious 크기 국제 조건에 대해 사용할 수입니다.

1/8"(3.2 m m), 3/16"(4.7mm)

알 루미나의 특성 염화 흡착 제를 지원합니다.

lUniform 크기

레 벤과 높고 낮은 온도에서 균일 한 활동

lGood 물 저항 및 강한 힘

lUneasy 이동식 액티브 구성 요소와 반응 후 염소

lWide 응용 프로그램 영역

염화의 제거를 위한 활성 알 루미나의 서비스 작업:

항목	단위	기술 요구 사항
외관		흰 구슬
입자 크기	mm	3-5 m m, 2-4 m m
AL2O3 + promotor	%	≥93
대량 밀도	g/cm³	0.75-0.8
노출 영역	㎡/g	≥130
볼륨을 기 공	ml/g	≥0.4
염소 capacity(50℃)의 침투	%	≥12
염소 capacity(250℃)의 침투	%	≥22
분쇄 강도 (N/입자)	N/입자	≥85

작동 온도: 5-400℃

일 압력: 일반 압력-0.8 m p a

공간 속도: 1000-3000 h-1

침대 높이-직경 비율: > 3

Dechlorination 비율: ≥99.9%

응용 프로그램의 기반으로 염화 흡착 제

XR-104 활성된 알 루미나 볼 dechlorination syngas, 촉매 및 흡착 제 보호 및 나 프 타에서 dechlorination 천연 가스, H2, N2, NH3, CO, CO2 및 다른 공급된 가스에 HCL removal(dehydrochlorinate) 널리 사용 됩니다.

염화의 제거를 위한 활성 알 루미나의 저장:

lAvoid, 스크롤 방지, 던져 분과 날카로운 운송 도중 충격, 방수 시설을 준비 한다.

불 오염 또는 습기를 방지 하기 위해 건조 하 고 통풍 창 고에 저장 한다.

XR104 활성화 HCI 흡착에 대 한 저장

● 수 분을 방지, 스크롤 방지, 던져와 날카로운 운송 도중 충격, 방수 시설을 준비 한다.

● 오염 또는 습기를 방지 하기 위해 건조 하 고 통풍 창 고에 저장 한다.

활성 알 루미나의 패키지:

유형

드럼

슈퍼 자루/점보 가방

구슬

25 kg/55 파운드