흡착제 - 탄소 분 자체

실제로, 활성탄이기도하며, 일반적으로 미세 공 직경이 좁은 범위에 균등하게 분포하고, 미세 공 크기가 분리 될 가스 분자의 직경과 동일하고, 미세 공극 비 표면적은 일반적으로 탄소 분 자체의 총 표면적의 90 % 이상을 차지합니다. 탄소 분 자체의 기공 구조는 주로 거대 기공의 직경이 탄소 입자의 외 표면과 연결되고, 기공이 거대 공극으로부터 분기되며, 미세 기공이 천이로부터 분기된다 기공. 분리 과정에서 거대 세공은 수송 채널의 역할을 담당하고 미세 기공은 분 자체의 역할을한다.

석탄으로부터 탄소 분 자체를 생산하기 위해 탄소 질 탄소 법, 가스 활성화 법, 탄소 침착 법 및 함침 법이 사용된다. 그 중에서도 탄소 화법이 가장 간단하지만 고품질의 탄소 분 자체를 생산하기 위해서는 몇 가지 방법을 조합하여 사용해야합니다.

탄소 분 자체 (carbon molecular sieve)는 질소 생산을위한 공기 분리 분야에서 성공적이었으며 다른 가스 분리에 대한 광범위한 전망을 가지고있다.